CY-GHX-AC暗箱操作光催化降解反应仪的详细资料:
暗箱操作光催化降解反应仪
1.光化学反应仪智能微电脑控制,可观察电流和电压实时变化
2.进口光源控制器,内置光源转换器,功率连续可调,稳定性高
3. 光化学反应仪具有分步定时功能,操作简便
4.反应暗箱内壁使用防辐射材料,且带有观察窗
5.采用内照式光源,受光充分,灯源采用耐高压防震材质,经久耐用
6.配有8(6/12可选)位磁力搅拌装置,使样品充分混匀受光
7.双层耐高低温石英冷阱,可通入冷却水循环维持反应温度
8.光化学反应仪高温度保护系统,自动断电功能
9.机箱外部结构设有循环水进出口,内部设有2个专用插座,供灯源和搅拌反应器用
暗箱操作光催化降解反应仪
摘要:温度是化学反应釜生产过程中对反应过程影响Z重要的的因素之一,温度的控制精度、系统响应速度及稳定度是衡量温度系统性能指标的关键因素,准确地控制反应釜内原料在不同温度下进行化学反应具有重要意义。先,本系统对反应釜的温度进行分析,得出了冷剂流量对反应釜内温度的传递函数。其次,通过单片机,利用继电器、DS18B20温度传感器、LCD液晶显示屏等设计了对反应釜进行加热与降温来实现反应釜温度控制的具体电路和实时系统,对实际化学反应过程中的温度变化进行模拟,并利用经典控制理论中的PID算法得到反应时的控制,并给出了详细的分析步骤和控制算法。Z后,通过组态软件对整个化学反应过程进行实时监控的模拟。
一、背景及国内外研究现状
1.1 问题研究背景
在化工生产过程中, 连续反应釜是一种常用的、重要的反应容器。其化学反应机理较为复杂, 受到外界条件、原料纯度、催化剂的类型等诸多因素的影响,所以难以建立J确的数学模型, 致使整套设备的自动化水平较低。而且在反应釜中进行的反应一般属于放热反应, 反应放热量大, 传热效果却不理想, 因此反应釜内温度一般具有大滞后、非线性等特征。针对反应釜内温度变化的特点, 设计良好的温度控制系统是保证产品质量的关键。
在我国,尽管大中城市的科学技术和工业自动化的发展比较快,但是在众多的小城市与农村地区由于经济不够发达,政府扶持力度不够,存在许多不全的小规模化工生产项目,给人们的人生安全与财产安全带来了yi定的威胁。所以,如何更安全的进行化工生产已经成为了政府和各种研究机构亟待解决和完善的事。
1.2 国内外研究现状
目前关于反应釜温度控制系统设计问题国内外都有一些研究,并且已经基本满足了工业需求。如Shinskey 与Weinstein 提出的双模控制(dual-mode),采用 bang-bang+PID 控制,其大致步骤为:过程开始时,全力加热,直至反应釜温度距其设定值为t1 度,然后全力冷却,持续TD1分钟,此后,将夹套水温设定值定在某个合适的中间温度,持续TD2 分钟,Z后,用串级PID 控制器控制夹套水温度。如果参数选择得当,双模控制是有效的。
Arthur Jutan 与 Ashok Uppal 提出将反应热作为一种扰动,采用适当的方法估计出来,用前馈控制抵消;余下的部分近似为线性系统,可以用PID 控制。Barry 与Sandro 采用GMC 方法控制反应釜温度,得到了很好的仿真结果,并且进一步考察了操作条件与过程参数变动时被控过程的鲁棒性,发现GMC的鲁棒性明显强于双模控制。
为适应化工生产的新特点,一些过程控制领域中的新技术正在由理论研究转向生产践,如信息综合处理技术、现场总线控制系统、各种智能控制技术、软计算技术和快速仿真技术、多媒体技术等。过程控制采用的技术工具,由基地式仪表、气动单元式组合式仪表、电动单元组合式仪表Ⅰ型、Ⅱ型、Ⅲ型,发展到现在的可编程单回路、双回路、三回路调节器和分散综合控制系统(DCS)。当前,传统的DCS 正借助于微处理器硬软件和通信网络技术,朝着标准化、开放化和尽量采用市场通用的优良硬、软件的方向,逐渐地、相互融合地向开放的DCS发展。如Honeywell 的 TPS,它采用通用的软件将企业的internet 网与局部控制网、通用控制网和系统总线连接在一起,配备各种平台、操作站以满足不同层次使用人员的要求。另外,Z近发展起来的现场总线网络控制系统(FCS)也是一种新的开放式的分布式控制系统。它把封闭协议变成标准开放协议,使系统共有数字计算和数字通信能力:在结构上,采用了全分布式方案,把控制功能下放到现场,提高了系统灵活性和可靠性:它突破了集散型控制系统DCS 中采用网络的缺陷。因此对于现场总线的工业控制系统研究具有重大的意义。据报道,美国犹他州盐湖城Flying 炼油厂、孟山都化工厂、我国安庆安菱化工厂、吉林油田甲醇厂已采用FCS,取得了明显的经济效益。专家估计,FCS 将在石化行业得到广泛的应用。
二、化学反应釜的过程分析
所谓过程系统是指研究一类以物质和能量转换为基础的生产过程。为了进一步改善工艺操作,提高自动化水平,优化生产过程,加强生产上的管理,需要研究这类过程的描述、设计、模拟、仿真、控制和管理,Z终能够显著地增加经济效益。在了解和掌握了工艺流程和生产过程动态的基础上,需要根据生产对控制提出要求。而过程控制就是应用控制理论,对生产过程进行综合分析并设计出包括被控对象、调节器、检测装置和执行器在内的过程控制系统,Z后采用合适的技术手段加以实现
2.1反应釜的基本结构 化学反应釜有间歇式和连续式两种。间歇式反应釜通常用于液相反应,而连续式反应釜通常用于均相和非均相的液相反应。
反应釜由搅拌容器和搅拌机两部分组成,搅拌容器包括筒体、换热元件级内构件;搅拌机由搅拌器、搅拌轴及其密封装置、传动装置等组成。
筒体为一个钢罐形容器,可以在罐内装入物料,使物料在其内部进行化学反应。为了维持反应釜内的反应温度,需要设置换热元件。常用的换热元件为夹套,它包围在筒体的外部,其与容器外壁形成密闭的空间。在此空间通入冷却或加热介质,通过夹套内壁传热,可冷却或加热容器内的物料。为了测量釜内的温度,在罐内装有钢制的温度计套管,可将温度计或温度传感器放入其中。为了满足工艺的需求还可以外接附件装置。
光化学反应仪主要用于研究气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、以及反应容器是否负载TiO2光催化剂等条件下的光化学反应。具有提供分析反应产物和自由基的样品,测定反应动力学常数,测定量子产率等功能,广泛应用化学合成、环境保护以及生命科学等研究领域
光化学、干膜、曝光及显影制程术语手册1、Absorption 领受,吸入
指被领受物会进入主体的内部,是一种化学式的吸入步履。如光化反映中的光能领受,或板材与绿漆对溶剂的吸入等。还有一近似词 Adsorption 则是指吸附而言,只附着在主体的概略,是一种物理式的亲和吸附。
2、Actinic Light(or Intensity,or Radiation) 有用光
指用以完成光化反映各类光线中,其Z有用波长规模的光而言。例如在360~420 nm 波长规模的光,对偶氮棕片、浅显吵嘴底片及重铬酸盐感光膜等,其等反映均Z快Z且功用Z大,谓之有用光。
3、Acutance 解像尖锐度
是指各类由感光编制所取得的图像,其线条边缘的尖锐景象抽象 (Sharpness),此与解像度 Resolution 不合。后者是指在必定宽度距离中,可以了了的显像(Develope)解出若干良多多少组“线对"而言(Line Pair,系指一条线路及一个空间的组合),普简易称只说解出机条“线"而已。
4、Adhesion Promotor 附出力增进剂
多指干膜中所添加的某些化学品,能促使其与铜面发生“化学键",而增进其与底材间之附出力者皆谓之。
5、Binder 粘结剂
各类积层板中的接着树脂部份,或干膜之阻剂中,所添加用以“成形"而不致太“散"的接着及组成剂类。
6、Blur Edge(Circle)恍惚边带,恍惚边圈
多层板各内层孔环与孔位之间在做瞄准度搜检时,可把持 X光透视法为之。由于X光之光源与其机组均非平行光之机关,故所得圆垫(Pad)之减少回忆,其边缘之解像其实不明锐了了,称为 Blur Edge。
7、Break Point 出像点,显像点
指制程中已有干膜贴附的“在制板",于自动保送线显像室上下喷液中遏制显像时,抵达其完成冲洗而闪现出了了图形的“旅程点",谓之“Break Point"。所经历过的冲洗旅程,以占显像室长度的 50~75% 之间为好,如斯可以使剩下旅途中的清水冲洗,更能增强断根残膜的成果。
8、Carbon Arc Lamp 碳弧灯
晚期电路板底片的翻制或版膜的分娩时,为其曝光所用的光源之一,是在中心迫近的碳精棒之间,施加高电压而发生弧光的拆卸。