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大容量光催化反应器CY-GHX-B光化学降解设备

大容量光催化反应器CY-GHX-B光化学降解设备

更新时间:2019-12-12
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大容量光催化反应器CY-GHX-B光化学降解设备,主要用于研究气相或液相介质、固定或流动体系、紫外光或模拟可见光照、以及反应容器是否负载TiO2光催化剂等条件下的光化学反应。具有提供分析反应产物和自由基的样品,测定反应动力学常数,测定量子产率等功能,广泛应用化学合成、环境保护以及生命科学等研究领域。

大容量光催化反应器CY-GHX-B光化学降解设备的详细资料:

大容量光催化反应器CY-GHX-B光化学降解设备

主要特征:

1.光化学反应仪智能微电脑控制,可观察电流和电压实时变化

2.进口光源控制器,内置光源转换器,功率连续可调,稳定性高

3.光化学反应仪具有分步定时功能,操作简便

4.反应暗箱内壁使用防辐射材料,且带有观察窗

5.采用内照式光源,受光充分,灯源采用耐高压防震材质,经久耐用

6.配有大功率磁力搅拌装置,使样品充分混匀受光

7.双层耐高低温石英冷阱,可通入冷却水循环维持反应温度

8.光化学反应仪高温度保护系统,自动断电功能

9.机箱外部结构设有循环水进出口,内部设有2个专用插座,供灯源和搅拌反应器用。

 

反应暗箱:

主体箱是放置系列光化学反应仪光照装置的地方,具有以下特征:

1、箱体内部为黑色,以降低光反射。

2、箱体后部有冷却水进出口。

3、调节控制器上面的光光源功率旋钮,使所使用光源功率处于zui大状态,这样利于灯管激亮。

4、依次打开控制器上面的风扇开关、反应器和灯开关,风扇开始工作(反应暗箱内空气开始外排。

5、打开八位反应器(或磁力搅拌器)上面的电源开关,按需调节搅拌速度。

6、光源功率调节位于控制器中心位置,可按需调节光源功率大小。

7、控制器右上方设有微电脑定时器,可按需设置工作时间。

注:无论使用汞灯或氙灯做实验时,必须将灯源放置在石英冷阱内使用(建议同时配套低温冷却循环装置使用,避免温度过高造成仪器损坏)。

 

大容量光催化反应器CY-GHX-B光化学降解设备

技术参数:

型号:CY-GHX-B大容量光化学反应仪

(一)主体部分

1.光源功率可连续调节大小。

2.集成式光源控制器,可供汞灯、氙灯、金卤灯等多种光源使用。

3.汞灯功率调节范围:0~1000W可连续调节。

4.氙灯功率调节范围:0~1000W可连续调节。

5.金卤灯功率调节范围:0~500W可连续调节。

(二)大容量反应部分

1.玻璃反应器皿可以分别选用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

2.大功率强力磁力搅拌器使样品充分混匀受光。

 

 

光催化净化技术主要是利用光催化剂二氧化钦(T'02)吸收外界辐射的光能,使其直接转变为化学能。当能量大于Ti02禁带宽度的光照射半导体时,光激发电子跃迁到导带,形成导带电子(e-),同时在价带留下空穴阶(h+)。由于半导体能带的不连续性,电子和空穴的寿命较长,它们能够在电场作用下或通过扩散的方式运动,与吸附在半导体催化剂粒子表面上的物质发生氧化还原反应,或者被表面晶格缺陷俘获。空穴和电子在催化剂粒子内部或表面也能直接复合,空穴能够同吸附在催化剂粒子表面的月口一或HZO发生作用生成经基自由基HO " , HO.是一种活性很高的粒子,能够无选择的氧化多种有机物并使之矿化。

由于光催化还属于一种新兴的技术,有很多因素还需要额外考虑,诸如纳米光催化剂的制备技术、纳米光催化剂的高活性和高寿命技术、纳米光催化剂的固载化技术和纳米光催化剂反应的设计技术,这些因素的实现势必会使得净化器价格攀升,从而影响推广。然而该技术zui大的不足在于,从利用太阳光效率的角度看,半导体的光吸收波长范围狭窄,主要在紫外区,利用太阳光的比例低;光生载流子的复合率很高,导致量子效率较低。

 

 

光学仪器起雾的原因及其危害

  雾是指光学零件的抛光面上,呈现出"露水"似的物质,这些物质有的是油质点子构成的,称为油性雾,有的是由水珠或水与玻璃起化学反应形成堆积物构成的,称为水性雾:有的光学零件上,两种雾都有,叫做水油混合雾,一般的都以"露水"状或干的堆积物存在于玻璃表面上。油性雾通常分布在元形光学零件的边缘,并向中央伸延,有的则沿擦拭痕迹分布,油性雾的形成主要是油脂污染了玻璃表面,或是由于油脂的扩散,挥发在玻璃表面凝结而造成的,比如擦拭光学零件所用的辅料含脂量高,或者所用的工具带有油脂,用手指直接拿取和触及光学零件等,都会引起油性雾,或者是光学仪器上所用油脂的化学稳定性不好,产生扩散或使用方法不当涂油过多,油脂扩散到光学零件上而引起油性雾,或者是由于仪表油脂挥发性很大,会产生油质蒸气而形成油性雾,还有的是用汽油清洗金工零件时,没有让汽油充分发挥干净,就涂油装配。还有的用汽油稀释放尘脂涂在镜身内,随着时间的增长和温度的变化,这些汽油及所含的其它成份,逐渐挥发至光学零件上而形成油性雾。

  水性雾是由于潮湿空气在温度变化下而形成,主要分布在零件的全面积上,产生原因主要是潮湿气体所致,但与仪器密封性能、光学玻璃的化学稳定性,以及玻璃表面的清洁程度有关,在较高的相对湿度下,霉菌易生长,有些霉菌生长状大后,便在菌丝体周围产生分泌物,这些分泌物有的是液状的,在液状分泌物外围便形成水性雾。不管何种原因形成的雾,由于雾滴以曲率半径极小的球形分布于光学零件表面上、使入射光线产生散射现象,除了降低仪器的有效透光率外,并使成象质量差影响观测。有的光学零件因长期起雾,被腐蚀的玻璃表面形成很多微孔,严重的会使玻璃零件报废。光学仪器起雾不仅在我国东南地区严重存在,就是较干燥的地区,由于温差变化,也会起雾,它比光学仪器生霉的影响范围更大,而且更难防止。

 

 


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